高純氣體是指氣體純度≥99.9995%，含水量＜5×10-4%的氣體。

      潔凈廠房廣泛用于電子、生物醫(yī)藥、精細化工、精密機械、食品、化妝品等產品生產中，不同產品生產過程中對所用高純度氣體的品種、純度以及氣體中允許的雜質濃度或氣體的品質要求差異很大。所用氣體品種之多、要求之嚴莫過于半導體工業(yè)為最為典型的了。這里對半導體工業(yè)的高純氣體作一簡單介紹。

一、半導體集成電路制造用高純氣體

1.高純氣體品種，按集成電路制造使用分：

      1）普通氣體（又稱大宗氣體）。有：H₂、N₂、O₂、Ar、He等。

      2）特種氣體（摻雜、外延、離子注入、刻蝕等）如：Si、SiO、Cr、Al、Mo、W等。

2.按使用時的危險性分：

      1）可燃、自燃、易燃氣體。如H₂、CH₄、H₂S、NH₃等。

      2）有毒氣體。半導體工業(yè)所用氣體大多對人體有毒有害。如：PH₃、ASH₃、B₂H₆等。

      3） 助燃氣體。此類氣體自身不燃，但與可燃物、可燃氣體接觸時有助燃的作用。如：O₂、N₂O、F₂、HF等。

      4）窒息性氣體。此類氣體性質穩(wěn)定，不燃、無毒。但當空氣中氧含量降低到18%時，使人因缺氧而覺呼吸困難。如：N₂、Ar、CO₂、He等。

      5）腐蝕性氣體。遇水即呈腐蝕性，但在干燥狀態(tài)時不易腐蝕金屬。如：HCl、PCl₃、POCl₃、HF等。

二、高純氣體的“三度”

1.氣體純度：氣體中雜質氣體的含量，通常用氣體純度的百分數表示，如：99.9999%，也用雜質氣體含量的體積比如：ppm、ppb、ppt表示。

2.干燥度：氣體中微量水分的含量，或稱之為含濕量，通常用露點表示，如常壓露點－70℃。

3.潔凈度：氣體中含有污染物粒子的數量，粒徑為μm，數量為pc/m³。對壓縮空氣也用不可避免的固體殘留物的多少表示，單位為mg/m³，其中包括了含油量。